作為(wei) 測量鍍層厚度zui簡單的方法之一，庫侖(lun) 法可以用於(yu) 各種鍍層組合。 尤其對於(yu) 多鍍層結構， 當允許破壞性測量時，它提供了一個(ge) 比 X 射線更經濟的替代方法。應用：強大並且用戶友好的 COULOSCOPE CMS2 適用於(yu) 電鍍行業(ye) 的生產(chan) 監控和成品的質量檢驗。

COULOSCOPE CMS2 的應
用實例：電鍍緊固件， 測量
PCB 板上的剩餘(yu) 純錫厚度，
鍍鉻件以及浴室用品
 

很多常見的單、雙鍍層例如鐵鍍鋅或者銅鍍鎳鍍錫都可以用 CMS2 簡單快速地測量。 這個(ge) 方法為(wei) 任何金屬鍍層提供了的測量。 在厚度範圍 0.05 - 50 μm 內(nei) ， 很多材料不需要預設定； 基材組成和幾何形狀對於(yu) 測量都是無關(guan) 緊要的。zui常見的應用之一就是測量線路板上剩餘(yu) 的純錫，以確保可焊性。多鍍層例如 Cr/ Ni/Cu 在鐵或者塑料（ABS）基材上，經常被用於(yu) 高品質的浴室用品，也可以用這個(ge) 方法進行測量。

                 
庫侖鍍層厚度測量法(DIN EN ISO 2177)      

測量原理
這個(ge) 係列儀(yi) 器根據 DIN EN ISO 2177 標準的庫侖(lun) 法。金屬或非金屬基材上的金屬鍍層，通過在控製電流條件下電解腐蝕--------實際上就是電鍍的反過程。所載入的電流與(yu) 要剝離的鍍層厚度是成正比的，假如電流和剝離麵 積保持不變，鍍層厚度與(yu) 電解時間就是成正比的關(guan) 係。

下麵的公式適用於(yu) 通過庫侖(lun) 法電解腐蝕確定鍍層厚度：

測量槽------可比作微型電解缸------被用來剝離鍍層。 測量麵積由裝在測量槽上的墊圈尺寸來決(jue) 定。對不同的金屬采用不同配方的電解液。 通過載入電流開始電解過程。電解過程由 COULSCOPE 儀(yi) 器的電子部分控製， 用一個(ge) 泵攪拌電解液來使電解區域電解液平穩腐蝕，保證電解液*利用。 根據測量區域的大小，各種直徑的墊圈可供選擇。

庫侖(lun) 法圖解介紹：